[发明专利]曝光装置及器件制造方法

摘要

本发明涉及曝光装置及器件制造方法。液压静力衬垫(32)和液压静力衬垫(34)保持晶片(W)和其上安置该晶片的台(TB)。液压静力衬垫(32)将轴承表面和晶片(W)之间在投影光学系统(PL)的光轴方向上的距离维持在预定值。另外，因为液压静力衬垫与静压气体轴承不同，液压静力衬垫利用在轴承表面和支撑物体(衬底)之间的不可压缩的流体(液体)的静压，所以轴承的刚度很高而且在轴承表面和衬底之间的距离维持稳定和恒定。此外，液体(如纯水)的粘滞度比气体(如空气)高，在振荡阻尼方面也比气体好。因此，在不一定必须布置焦点位置探测系统的情况下，可以实现转印到晶片(衬底)上的图案基本上没有散焦。

主权项

1. 一种曝光装置，该曝光装置在投影光学系统和衬底之间的空间中供给液体，用能量束照射图案，并通过所述投影光学系统和所述液体将所述图案转印到所述衬底上，所述曝光装置包括：第一台，在该第一台处形成所述衬底的安置区域，并且所述安置区域周围的区域的表面设置成与安置在所述安置区域上的衬底的表面齐平，所述第一台能够在包括第一区域和第二区域的预定范围的区域内移动，其中所述第一区域包含在所述投影光学系统正下方供给所述液体的位置，所述第二区域位于所述第一区域的轴向的一侧；第二台，该第二台的表面设置成与所述衬底的表面齐平，所述第二台能够独立于所述第一台在包括所述第一区域和所述第二区域的区域内移动；和台座驱动系统，该台座驱动系统驱动所述第一台和所述第二台，并还在维持两个台在所述轴向上接近在一起或两个台在所述轴向上接触的状态的同时，在从所述台中的一个台位于所述第一区域的第一状态向另一个台位于所述第一区域的第二状态过渡时，沿所述轴向从所述第二区域侧向所述第一区域侧同时驱动所述第一台和所述第二台。