[发明专利]薄膜晶体管有效
申请号: | 200810185612.7 | 申请日: | 2008-12-17 |
公开(公告)号: | CN101752424A | 公开(公告)日: | 2010-06-23 |
发明(设计)人: | 颜精一;陈良湘 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L51/05;H01L51/30 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 彭久云 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种薄膜晶体管,包括栅极、至少一无机材料层、至少一介电层、源极、漏极与有源层。栅极,位于基板上。无机材料层,覆盖住栅极。介电层至少包括有机材料,覆盖于基板上,其具有开口,裸露出栅极上的无机材料层。源极与漏极,分别位于介电层以及开口所裸露出的部分无机材料层上,源极与漏极之间具有沟道区。有源层,位于沟道区上。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 | ||
【主权项】:
一种薄膜晶体管,包括:栅极,位于基板上;至少一无机材料层,覆盖住该栅极;至少一介电层,包括有机材料,覆盖于该基板上,其具有开口,裸露出该栅极上的该无机材料层;源极与漏极,分别位于该介电层以及该开口所裸露出的部分该无机材料层上,该源极与该漏极之间具有沟道区;以及有源层,位于该沟道区上。
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