[发明专利]扫描曝光方法无效
| 申请号： | 200810185963.8 | 申请日： | 2008-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN101750901A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 施江林;黄浚彦 | 申请（专利权）人： | 南亚科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 陈晨;张浴月 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种扫描曝光方法，包括：将一掩模及一基板往一方向相对移动，其中该掩模及该基板在单次照射的移动过程中，具有至少二种不同的等相对速度，以使该基板一被曝光的照射区域具有一期望尺寸。本发明的扫描曝光方法，能够减少当下一晶片的叠对测量数据往相同的方向的偏移量，也亦即能够有效改善当层与前层之间叠对偏移的程度，并降低晶片的不良率。 | ||
| 搜索关键词： | 扫描 曝光 方法 | ||
【主权项】：
一种扫描曝光方法，包括：将一掩模及一基板往一方向相对移动，特征在于，其中该掩模及该基板在单次照射的移动过程中，具有至少二种不同的等相对速度，以使该基板一被曝光的照射区域具有一期望尺寸。
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