[发明专利]0.4-1.1微米线性渐变滤光片及其制备方法无效
| 申请号： | 200810186292.7 | 申请日： | 2008-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN101692132A | 公开（公告）日： | 2010-04-07 |
| 发明（设计）人： | 陈焘;王多书;熊玉卿;刘宏开;叶自煜;王济洲 | 申请（专利权）人： | 中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G02B27/00;B08B3/12;B08B11/04 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 张利萍 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种0.4-1.1微米线性渐变滤光片及其制备方法，属于光学系统领域。该线性渐变滤光片以K9玻璃作为镀膜基底，二氧化钛和二氧化硅为镀膜材料；线性渐变滤光片的设计膜系为：K9/(LHLH2LHLH)3/Air，其中H、L分别为高低折射率材料的1/4波长光学厚度二氧化钛和二氧化硅；该线性渐变滤光片线在0.4-1.1微米波段具有10个通道，相对带宽6.8％，在基片的中间任一位置只透过0.4-1.1微米内的一种特定波长的光。本发明与列阵探测器组合使用，可以简化仪器的光学和机械系统，提高仪器的可靠性和稳定性；使它们微小化而便于携带，更重要的是它能同时识别不同的光辐射，同时快速地探测不同的光谱辐射。 | ||
| 搜索关键词： | 0.4 1.1 微米 线性 渐变 滤光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种0.4-1.1微米线性渐变滤光片，其特征在于设计膜系为：K9/(LHLH2LHLH)3/Air；其中H、L分别为高低折射率材料的1/4波长光学厚度的二氧化钛和二氧化硅。
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