[发明专利]用于处理衬底的设备有效
申请号: | 200810187306.7 | 申请日: | 2008-12-26 |
公开(公告)号: | CN101469416A | 公开(公告)日: | 2009-07-01 |
发明(设计)人: | 河宪植 | 申请(专利权)人: | 周星工程股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513;H01L21/00 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 孟 锐 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 一种用于处理衬底的设备包含:腔室,其包含上盖;后板,其在所述腔室中;气体分配板,其在所述后板下方,所述气体分配板包含多个注射孔,使用多个第一耦合构件将所述气体分配板与所述上盖组合;以及衬底夹具,其在所述气体分配板下方,所述衬底夹具在其上具有所述衬底。 | ||
搜索关键词: | 用于 处理 衬底 设备 | ||
【主权项】:
1. 一种用于处理衬底的设备,其包括:腔室,其包含上盖;后板,其在所述腔室中;气体分配板,其在所述后板下方,所述气体分配板包含多个注射孔,使用多个第一耦合构件将所述气体分配板与所述上盖组合;以及衬底夹具,其在所述气体分配板下方,所述衬底夹具在其上具有所述衬底。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的