[发明专利]从掩模板移除护膜的装置和方法有效
申请号: | 200810188131.1 | 申请日: | 2008-12-18 |
公开(公告)号: | CN101464626A | 公开(公告)日: | 2009-06-24 |
发明(设计)人: | 洛塔尔·安德里茨基;霍格尔·布罗舍;斯特芬·克吕格尔;斯特芬·波拉克;克劳斯-彼得·魏斯 | 申请(专利权)人: | HAP精密技术自动处理有限公司 |
主分类号: | G03F1/14 | 分类号: | G03F1/14 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人: | 臧建明 |
地址: | 德国德*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种从可用于光刻的掩模板移除护膜的装置和方法。本发明的目的是提供以通用的方式能够从掩模板移除护膜的可能性,而不进一步污染或者损伤掩模板。在本方明的装置中至少设有一个手柄,用于操作设有护膜的掩模板,所述手柄具有至少两个固定元件,通过施加的压力接合在一掩模板的边缘;此外在这种环境下,至少设有一个探测器,用于非接触地确定形成于护膜的径向外边缘的支座的位置;一加热装置,用于加热粘合剂,护膜通过所述粘合剂材料连续性地与一掩模板固紧;以及一从一掩模板移除所述护膜的移除装置,具有一掩模板固定部件和一护膜移除部件。 | ||
搜索关键词: | 模板 装置 方法 | ||
【主权项】:
1、一种从可用于光刻的掩模板移除护膜的装置,其中具有至少一个固紧手柄(3),用于操作设有护膜(2)的掩模板(1),所述手柄具有至少两个固定元件(3.1),其通过施加的压力接合在掩模板(1)的边缘;至少一个探测器(4),用于非接触地确定形成于护膜(2)的径向外边缘的支座(2.1)的位置;一加热装置,用于加热粘合剂,护膜(2)通过所述粘合剂以材料连续性地与掩模板(1)固紧;以及一从掩模板(1)移除所述护膜(2)的移除装置,其具有一掩模板固定部件和一护膜移除部件(5)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于HAP精密技术自动处理有限公司,未经HAP精密技术自动处理有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810188131.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备