[发明专利]光罩及其制作方法无效
| 申请号： | 200810188172.0 | 申请日： | 2008-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN101738845A | 公开（公告）日： | 2010-06-16 |
| 发明（设计）人： | 林佳蔚;黄登烟 | 申请（专利权）人： | 南亚科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 陈怡;颜涛 |
| 地址： | 中国台湾桃园县龟山*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提出一种光罩及其制作方法，该光罩包含一透光区以及一遮光区，其中该遮光区包含多个光子晶胞，每一个该光子晶胞具有一正六边形的受光面，且多个该光子晶胞的晶格常数与光源的波长的比值为一特定值，从而该光源无法通过由多个该光子晶胞所组成的遮光区。 | ||
| 搜索关键词： | 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种光罩，包含：一透光区；以及一遮光区，其包含多个光子晶胞，且每一所述光子晶胞具有一受光面；其中所述受光面为一正六边形，且多个所述光子晶胞的晶格常数与光源的波长的比值为一特定值，从而所述光源无法通过所述遮光区。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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