[发明专利]具有隔离层的铸件及其制作方法有效
申请号: | 200810188844.8 | 申请日: | 2008-12-30 |
公开(公告)号: | CN101767272A | 公开(公告)日: | 2010-07-07 |
发明(设计)人: | 谢宝贤;苏子可;张茂盛 | 申请(专利权)人: | 财团法人金属工业研究发展中心 |
主分类号: | B23P17/00 | 分类号: | B23P17/00;B23K20/00;B22D19/04 |
代理公司: | 中国商标专利事务所有限公司 11234 | 代理人: | 万学堂;桑丽茹 |
地址: | 中国台湾高雄*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种具有隔离层的铸件及其制作方法,主要是以电磁脉冲接合步骤,将包含第一金属元素的合金构件对应设置在主要包含铁元素的基材上,并以电磁脉冲接合方式令该构件与该基材结合形成由该构件形成隔离层的嵌入件,然后以铸造步骤选择包含第二金属元素的铸材,其中,该第一金属元素与铁元素的活性差小于该第二金属元素与铁元素的活性差,并以铸造方式将铸材形成铸胚并与嵌入件结合,制得具有隔离层的铸件。 | ||
搜索关键词: | 具有 隔离 铸件 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种具有隔离层的铸件的制作方法,其特征在于:一电磁脉冲接合步骤,将一包含一第一金属元素的构件对应设置在一主要包含铁元素的基材上,并以电磁脉冲接合方式令该构件与该基材结合,形成一具有一由该构件构成隔离层的嵌入件;及一铸造步骤,选择一包含一第二金属元素的铸材,其中,该第一金属元素与铁元素的活性差小于该第二金属元素与铁元素的活性差,以铸造方式将该铸材与该嵌入件连接,并使该铸材形成一与该嵌入件结合的铸胚,制得该具有隔离层的铸件。
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