[发明专利]二段式太阳能电池的制造方法无效
申请号: | 200810189249.6 | 申请日: | 2008-12-26 |
公开(公告)号: | CN101764173A | 公开(公告)日: | 2010-06-30 |
发明(设计)人: | 王政烈;吴月花 | 申请(专利权)人: | 和舰科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人: | 郑光 |
地址: | 215025 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提出了一种二段式太阳能电池的制造方法,包括:制造基板;在基板上形成掩膜层,并在所述掩膜层表面制成开口;在掩膜层下方植入杂质,且位于所述开口处的杂质浓度高于位于非开口处的杂质浓度;进行杂质活化;在表面形成反射防止膜并形成电极。本发明仅采用一次离子植入结合一次热扩散技术。通过控制掩膜层的厚度来控制不同区域植入掺杂离子的浓度,使电极下方形成高浓度层,其他区域形成低浓度层,然后经过热扩散激活植入的离子。本发明提出的方法,能够仅采用一次植入和热扩散,实现与现有的二段式太阳能电池相同的技术参数,具有更好的接触电阻、较高的转换效率,同时又能减少生产工艺步骤、降低成本。 | ||
搜索关键词: | 二段式 太阳能电池 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种二段式太阳能电池制造方法,包括:步骤1、制造基板;步骤2、在基板上形成掩膜层,并在所述掩膜层表面制成开口;步骤3、在掩膜层下方植入杂质,并使位于所述开口处的杂质浓度高于位于非开口处的杂质浓度;步骤4、进行杂质活化;步骤5、在表面形成反射防止膜并形成电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于和舰科技(苏州)有限公司,未经和舰科技(苏州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810189249.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:开关电源
- 下一篇:功率放大器及其调制器
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的