[发明专利]无光罩式曝光系统

摘要

本发明涉及一种无光罩式曝光系统，其包括发光源、第一准直器、第一反射镜、第二反射镜、图案产生器、投射透镜、第一杂散光过滤器、衬底、平台和控制装置。由于所述第一反射镜和所述第二反射镜的配置，使得所述发光源所发出的所述光束的光路径得以延长，因此，所述发光源的位置可以设置于远离所述衬底，因而所述发光源所发出的光线不会因为散射作用而直接影响所述衬底上的所述光阻层。因此，所述光阻层所曝出的图案的图形会较均匀，可以降低产品不良率。

主权项

一种无光罩式曝光系统，其包括：发光源，其用以发出光束；第一准直器，其用以使所述光束形成准直光束；第一反射镜，其用以改变来自所述第一准直器的光束的行进方向；第二反射镜，其用以改变来自所述第一反射镜的光束的行进方向；图案产生器，其可切换出多种图案，将来自所述第二反射镜的光束反射出对应的图案以形成图案化光束；投射透镜，其可调整焦距，放大或缩小来自所述图案产生器的图案化光束；第一杂散光过滤器，其用以滤除所述图案化光束内的杂散光；衬底，其表面上具有光阻层，通过所述第一杂散光过滤器的图案化光束投射于所述光阻层上；平台，其承载所述衬底；以及控制装置，其电性连接到所述图案产生器，用以控制所述图案产生器所产生的图案。