[发明专利]一种n-ZnO纳米线/p-NiO异质pn结二极管及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200810197016.0 申请日: 2008-09-19
公开(公告)号: CN101378091A 公开(公告)日: 2009-03-04
发明(设计)人: 方国家;黄晖辉;艾磊 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: H01L31/109 分类号: H01L31/109;H01L31/0336;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 武汉天力专利事务所 代理人: 程祥;冯卫平
地址: 43007*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种n-氧化锌纳米线/p-氧化镍异质pn结二极管,至少包括pn结和欧姆接触电极,所述pn结由n型ZnO薄膜种子层或者掺杂ZnO薄膜种子层上生长出的n型ZnO纳米线;在ZnO纳米线上镀NiO材料而得到的异质pn结。本发明首先用磁控溅射工艺在玻璃基片或在n型硅片上制备ZnO或AZO种子层;然后采用水热反应法生长出n型ZnO纳米线;然后在ZnO纳米线上镀NiO层形成异质pn结;最后采用溅射法或热蒸发法在pn结制作电极;电极通过后退火合金化形成欧姆接触。本发明异质pn结二极管具有较低的正向开启电压和较高的反向击穿电压、较大的正向电流密度,具有较好的紫外光敏特性而且其制备方法工艺简单、成本低廉。
搜索关键词: 一种 zno 纳米 nio 异质 pn 二极管 及其 制备 方法
【主权项】:
1、一种n-氧化锌纳米线/p-氧化镍异质pn结二极管,至少包括pn结和欧姆接触电极,其特征在于:所述pn结是由n型ZnO薄膜种子层或者掺杂ZnO薄膜种子层上生长出的n型ZnO纳米线;纳米线间的缝隙中先填充入绝缘材料再在ZnO纳米线上镀NiO材料,或直接在ZnO纳米线上镀NiO材料而得到的异质pn结。
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