[发明专利]旋成膜二次喷射金属雾化装置有效
| 申请号： | 200810200298.5 | 申请日： | 2008-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN101376172A | 公开（公告）日： | 2009-03-04 |
| 发明（设计）人： | 王志亮 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | B22F9/08 | 分类号： | B22F9/08 |
| 代理公司： | 上海上大专利事务所（普通合伙） | 代理人： | 何文欣 |
| 地址： | 200444*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种旋成膜二次喷射金属雾化装置。它包括一个输入液体金属射流供给部，与输入液体金属射流中心同中心设置一个环形雾化组合喷嘴，环形雾化组合喷嘴的下方设置一个旋转的冲击平台；所述环形雾化组合喷嘴有上游喷口和下游喷口，所述上游喷口平喷射气流方向呈向下离心方向，从而冲击输入金属射流冲击到冲击平台形成的旋成膜，实现成膜破碎；所述下游喷口喷射气流方向呈向下中心方向而与上游喷口喷射气流方向成有效交叉角度，从而冲击成膜破碎的液体金属颗粒，实现二次破碎。采用本发明可获得更好的雾化效果和更细的金属液滴和粉末。 | ||
| 搜索关键词： | 旋成膜 二次 喷射 金属 雾化 装置 | ||
【主权项】：
1.一种旋成膜二次喷射金属雾化装置，包括一个输入液体金属射流(3)供给部，其特征在于与输入液体金属射流(3)中心同中心设置一个环形雾化组合喷嘴(1)，环形雾化组合喷嘴(1)的下方设置一个旋转的冲击平台(6)；所述环形雾化组合喷嘴(1)有上游喷口(4)和下游喷口(5)，所述上游喷口(4)平喷射气流方向呈向下离心方向，从而冲击输入金属射流(3)冲击到冲击平台(6)形成的旋成膜，实现成膜破碎；所述下游喷口(5)喷射气流方向呈向下中心方向而与上游喷口(4)喷射气流方向成有效交叉角度，从而冲击成膜破碎的液体金属颗粒，实现二次破碎。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海大学，未经上海大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810200298.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
