[发明专利]用于多晶硅生产的三氯氢硅汽化装置的挥发器及控制系统无效
| 申请号： | 200810201533.0 | 申请日： | 2008-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN101723372A | 公开（公告）日： | 2010-06-09 |
| 发明（设计）人： | 吕国华;袁克文;钱承荣 | 申请（专利权）人： | 上海棱光实业股份有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/03 | 分类号： | C01B33/03 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 徐伟奇 |
| 地址： | 200241 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及多晶硅生产制造领域，是一种用于多晶硅生产过程中控制三氯氢硅与氢气比率的装置。本发明装置也可以应用于合成光学石英玻璃生产制造领域，在合成光学石英玻璃生产过程中控制四氯化硅与载料气体的比率。所述汽化装置的挥发器由挥发槽、喷雾管、加热管，支承件和支承座组成。本发明有利于提高还原炉的生产能力和降低还原生产损耗。也有利于多晶硅生产企业实现自动化和集群化生产控制。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 多晶 生产 三氯氢硅 汽化 装置 挥发 控制系统 | ||
【主权项】：
一种用于多晶硅生产的三氯氢硅汽化装置的挥发器，其特征在于，所述的挥发器由挥发槽(10)、喷雾管(11)、加热管(12)，支承件(14)和支承座(17)组成；所述挥发槽包括挥发腔(101)，该挥发腔两端面密封；左封头端面设有与加热管(12)连通定位安装孔(102)；该挥发腔中部外层设有加热夹套(103)，该夹套的上部和下部各设有进水口(1031)和出水口(1033)；在该挥发腔(101)的下部左右二端设有排污口(104)和三氯氢硅进料口(105)；在该挥发腔(101)的上部设有三氯氢硅和氢气的出料口(106)；该挥发腔(101)设有外接液位传感器的联接口(1071)；该挥发腔(101)右封头端面上设有窥视窗(108)、喷雾管法兰联接器(109)、联接目视液位计的孔(10101)；所述喷雾管(11)由圆管(111)和法兰(112)组成，圆管(111)一端封闭，另一端设有管接螺纹，法兰位于管接螺纹端，圆管(111)壁上设有若干小穿孔；在挥发槽(10)外，喷雾管(11)法兰端与挥发槽(10)的法兰联接器(109)相连；在挥发槽(10)内，另一端固定在支承件(14)上，支承件(14)二端通过焊接固定在挥发腔(101)腔壁上。所述加热管(12)由U型盘向加热管组成，所述加热管固定在支承件(15)、(16)上，加热管的进出口管穿过挥发腔(101)定位安装孔(102)，并进行密封焊接，支承件(15)和(16)二端通过焊接固定在挥发腔(101)腔壁上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海棱光实业股份有限公司，未经上海棱光实业股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810201533.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：硅提纯方法及装置
- 下一篇：高比容量有机混合型超级电容器负极材料及其制备方法
