[发明专利]同轴双面位置对准系统及位置对准方法有效
| 申请号： | 200810201820.1 | 申请日： | 2008-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN101382743A | 公开（公告）日： | 2009-03-11 |
| 发明（设计）人： | 吕晓薇;徐兵;蔡巍 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20;G02B27/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈 蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种同轴双面位置对准系统及位置对准方法。本发明提出的同轴双面位置对准系统，用于双面投影曝光装置中，包括：设于掩模版上方的双面位置对准装置；设置于掩模版上的掩模标记；设置于承片台上的曝光对象；设于曝光对象上的曝光对象标记；其中，所述的双面位置对准装置通过分别检测所述的正面对准时和背面对准时掩模标记和曝光对象标记的位置信息并传送给承版台和承片台运动控制单元，以控制承版台和承片台的运动来调整掩模版和曝光对象的位置，从而实现曝光对象上正反两面的曝光场和掩模版上电路图案之间位置的精确对准；其中，反面对准采用近红外光路同轴成像实现曝光场和掩模版上图案的对准。 | ||
| 搜索关键词： | 同轴 双面 位置 对准 系统 方法 | ||
【主权项】：
1、一种同轴双面位置对准系统，用于双面投影曝光装置中，设置于一个包含光学投影系统、掩模版、承版台、承版台运动控制单元、曝光对象、承片台、承片台运动控制单元及总控制装置的投影曝光装置上，其特征在于，包括:位于掩模版上方的双面位置对准装置；设置于掩模版上的掩模标记；位于承片台上的曝光对象；设置于曝光对象上的曝光对象标记；其中，所述的双面位置对准装置通过分别检测所述的正面对准时和背面对准时掩模标记和曝光对象标记的位置信息并传送给承版台和承片台运动控制单元，以控制承版台和承片台的运动来调整掩模版和曝光对象的位置，从而实现曝光对象上正反两面的曝光场和掩模版上电路图案之间位置的精确对准；其中，反面对准采用近红外光路同轴成像实现曝光场和掩模版上图案的对准。
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