[发明专利]地下工程中半逆作框架结构的施工方法无效

专利信息
申请号: 200810203949.6 申请日: 2008-12-04
公开(公告)号: CN101435203A 公开(公告)日: 2009-05-20
发明(设计)人: 陆顺康;游庆军 申请(专利权)人: 上海市第五建筑有限公司
主分类号: E02D29/045 分类号: E02D29/045
代理公司: 上海金盛协力知识产权代理有限公司 代理人: 罗大忱
地址: 20006*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种地下工程中半逆作框架结构的施工方法,包括以下步骤:挖掘至地下一层的顶部,并建立第一框架结构;在所述第一框架结构的底部安装全断面注浆管;在所述地下一层顶部的下方挖掘至地下二层顶部,并在所述第一框架结构的下方建立第二框架结构;向全断面注浆管内灌注水泥浆液,填补所述第一框架结构与第二框架结构之间的缝隙。利用本发明提供的地下工程中半逆作框架结构的施工方法,施工简单,可以填补半逆作框架结构施工中存在的施工缝,提高框架结构的防水效果,且成本低。
搜索关键词: 地下工程 中半逆作 框架结构 施工 方法
【主权项】:
1. 一种地下工程中半逆作框架结构的施工方法,其特征在于,包括以下步骤:①挖掘至地下一层的顶部,并建立第一框架结构;②在所述第一框架结构的底部安装全断面注浆管;③在所述地下一层顶部的下方挖掘至地下二层顶部,并在所述第一框架结构的下方建立第二框架结构;④向全断面注浆管内灌注水泥浆液,填补所述第一框架结构与第二框架结构之间的缝隙。
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