[发明专利]多晶硅还原反应炉无效

专利信息
申请号: 200810204124.6 申请日: 2008-12-05
公开(公告)号: CN101463498A 公开(公告)日: 2009-06-24
发明(设计)人: 袁建中 申请(专利权)人: 袁建中
主分类号: C30B29/06 分类号: C30B29/06;C01B33/03;C30B28/14
代理公司: 上海开祺知识产权代理有限公司 代理人: 李兰英
地址: 200030上海市徐*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种多晶硅还原反应炉,包括炉体,置于炉体内的电极和与电极连接的硅芯,进气口,排气口,置于炉体开口处的活动炉门,与炉体分离而活动或固定的电极盘。所述炉体的中心轴线沿水平方向置放。使用本发明的还原反应炉进行多晶硅的生产,容易扩大生产规模,缩短生产周期,节约生产成本,提高成品率和生产效率。
搜索关键词: 多晶 还原 反应炉
【主权项】:
1. 一种多晶硅还原反应炉,包括炉体、置于炉体内的电极和与电极连接的硅芯、进气口、排气口,其特征在于,包括置于炉体开口处的活动炉门,与炉体分离并活动或固定的电极盘,所述炉体的中心轴线沿水平方向置放。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于袁建中,未经袁建中许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810204124.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top