[发明专利]边缘曝光装置及其控制方法

摘要

本发明提出一种边缘曝光装置，用于将承载于硅片旋转台上的硅片进行预对准和边缘曝光。边缘曝光装置包括预对准系统、边缘曝光系统和控制系统。预对准系统发出预对准光线用于对硅片进行预对准。边缘曝光系统发出边缘曝光光线用于对硅片进行边缘曝光。控制系统包括光电传感器和控制单元。预对准光线和边缘曝光光线经过硅片的反射进入光电传感器。控制单元电性连接至光电传感器、预对准系统和边缘曝光系统，控制单元根据光电传感器采集的预对准光线和边缘曝光光线信号完成硅片的预对准和边缘曝光。本发明将硅片边缘曝光及预对准功能集成在一套装置中，降低成本，提高系统的紧凑性。

主权项

1. 一种边缘曝光装置，用于将承载于硅片旋转台上的硅片进行预对准和边缘曝光，其特征是，包括：预对准系统，用于对该硅片进行预对准，包括预对准光源，用于发出预对准光线；边缘曝光系统，用于对该硅片进行边缘曝光，包括边缘曝光光源，用于发出边缘曝光光线；以及控制系统，包括：光电传感器，该预对准光线和该边缘曝光光线经过该硅片的反射进入该光电传感器；以及控制单元，该控制单元电性连接至该光电传感器、该预对准光源和该边缘曝光光源，该控制单元根据该光电传感器采集的预对准光线和边缘曝光光线信号完成硅片的预对准和硅片边缘曝光。