[发明专利]一种双面钝化晶体硅太阳电池的制备方法无效
申请号: | 200810207491.1 | 申请日: | 2008-12-22 |
公开(公告)号: | CN101447532A | 公开(公告)日: | 2009-06-03 |
发明(设计)人: | 陶龙忠;邢国强 | 申请(专利权)人: | 上海晶澳太阳能光伏科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 广州知友专利商标代理有限公司 | 代理人: | 李海波 |
地址: | 200436*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种双面钝化晶体硅太阳电池的制备方法,该方法是在太阳电池的正面和背面制备叠层钝化层,利用丝网印刷在背面叠层钝化层上印制腐蚀性浆料的方法,在背面叠层钝化层开电极窗口,然后在其上丝网印刷或溅射法形成背电极。本发明利用丝网印刷腐蚀性浆料的方法,实现了双面钝化太阳电池结构。双面钝化结构,大大提高太阳电池长波响应,提高了太阳电池的转换效率,同时因为取消了全铝背场结构,采用局部铝背场,减小了太阳电池的弯曲,更适应太阳电池薄片化的趋势。使用丝网印刷技术代替了光刻、激光烧结的办法,节约了生产成本,更适合大规模生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 双面 钝化 晶体 太阳电池 制备 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种双面钝化晶体硅太阳电池的制备方法,包括制备晶体硅太阳电池的必需工艺,其特征在于,还包括在太阳电池的正面和背面制备叠层钝化层,利用丝网印刷在背面叠层钝化层上印制腐蚀性浆料的方法,在背面叠层钝化层开电极窗口,然后在其上用丝网印刷或溅射法形成背电极。
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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