[发明专利]一种双面钝化晶体硅太阳电池的制备方法无效

专利信息
申请号: 200810207491.1 申请日: 2008-12-22
公开(公告)号: CN101447532A 公开(公告)日: 2009-06-03
发明(设计)人: 陶龙忠;邢国强 申请(专利权)人: 上海晶澳太阳能光伏科技有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 广州知友专利商标代理有限公司 代理人: 李海波
地址: 200436*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种双面钝化晶体硅太阳电池的制备方法,该方法是在太阳电池的正面和背面制备叠层钝化层,利用丝网印刷在背面叠层钝化层上印制腐蚀性浆料的方法,在背面叠层钝化层开电极窗口,然后在其上丝网印刷或溅射法形成背电极。本发明利用丝网印刷腐蚀性浆料的方法,实现了双面钝化太阳电池结构。双面钝化结构,大大提高太阳电池长波响应,提高了太阳电池的转换效率,同时因为取消了全铝背场结构,采用局部铝背场,减小了太阳电池的弯曲,更适应太阳电池薄片化的趋势。使用丝网印刷技术代替了光刻、激光烧结的办法,节约了生产成本,更适合大规模生产。
搜索关键词: 一种 双面 钝化 晶体 太阳电池 制备 方法
【主权项】:
1. 一种双面钝化晶体硅太阳电池的制备方法,包括制备晶体硅太阳电池的必需工艺,其特征在于,还包括在太阳电池的正面和背面制备叠层钝化层,利用丝网印刷在背面叠层钝化层上印制腐蚀性浆料的方法,在背面叠层钝化层开电极窗口,然后在其上用丝网印刷或溅射法形成背电极。
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