[发明专利]阿达玛变换干涉光谱成像方法及设备无效

专利信息
申请号: 200810210069.1 申请日: 2008-08-21
公开(公告)号: CN101526400A 公开(公告)日: 2009-09-09
发明(设计)人: 周锦松;相里斌 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: G01J3/45 分类号: G01J3/45
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 代理人: 康 凯
地址: 710119陕西省西安*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 一种阿达玛变换干涉光谱成像方法,该方法包括以下步骤(1)成像于阿达玛模板表面上;(2)限制参与阿达玛变换编码的视场范围和过滤杂散光;(3)在垂直于光轴的方向上剪切成两个虚阿达玛模板,与阿达玛模板平行并且宽度方向一致;(4)产生干涉,与剪切方向垂直,(5)将干涉图信号进行送入计算机处理系统中;(6)阿达玛模板变换n次后,完成编码;(7)进行傅里叶变换,得到n幅目标经阿达玛模板编码后的光谱图像,解码后最终得到目标的两维空间信息和一维光谱信息,完成成像。本发明不受阿达玛模板尺寸限制,形成系统结构简单。
搜索关键词: 阿达玛 变换 干涉 光谱 成像 方法 设备
【主权项】:
1.一种阿达玛变换干涉光谱成像方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)前置光学成像系统1将目标成像于具有n个码元的阿达玛模板3表面上;(2)紧贴着阿达玛模板3设置光阑2限制参与阿达玛变换编码的视场范围和过滤杂散光;(3)经阿达玛模板3编码后的目标像进入横向剪切干涉仪4,阿达玛模板3在垂直于光轴的方向上被横向剪切干涉仪4剪切成两个虚阿达玛模板,与阿达玛模板3平行并且宽度方向一致;(4)两个虚阿达玛模板经傅氏镜5和柱面镜6,在探测器7上产生干涉,干涉条纹方向与剪切方向垂直,干涉光程差与剪切量和探测器的有效尺寸成正比,与傅氏镜5的焦距成反比,阿达玛模板3位于傅氏镜5的前焦面,探测器7位于傅氏镜5和柱面镜6的后焦面;(5)将探测器7输出的干涉图信号进行数字化后送入计算机处理系统8中;(6)阿达玛模板3变换一次编码,探测器7采集一次干涉图信号,阿达玛模板3变换n次后,完成编码;(7)n次采集得到的干涉图信号分别进行傅里叶变换,得到n幅目标经阿达玛模板编码后的光谱图像,这些图像经快速阿达玛变换解码后最终得到目标的两维空间信息和一维光谱信息,完成成像。
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