[发明专利]激光直描装置有效
| 申请号： | 200810210446.1 | 申请日： | 2008-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN101393399A | 公开（公告）日： | 2009-03-25 |
| 发明（设计）人： | 内藤芳达;押田良忠;铃木光弘 | 申请（专利权）人： | 日立比亚机械股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B26/10 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张敬强 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够将各种灵敏度的感光材料进行曝光并且能够根据工件的变形来修正描画位置的激光直描装置。该激光直描装置使基于光栅数据调制的激光束(5a)通过圆柱形透镜(9)向副扫描方向聚光的同时偏向主扫描方向，并且使被描画体(10)向副扫描方向移动而将所期望的图形描画到被描画体(10)上，构成为使圆柱形透镜(9)的中心轴(P)能够在水平方向旋转，并能够改变圆柱形透镜(9)的中心轴(P)相对于主扫描方向的角度。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 装置 | ||
【主权项】：
1. 一种激光直描装置，使基于光栅数据调制的激光束通过圆柱形透镜向副扫描方向聚光的同时偏向主扫描方向，并且使被描画体向副扫描方向移动而将所期望的图形描画到被描画体上，其特征在于，构成为，使上述圆柱形透镜的轴线能够在与上述被描画体的表面平行的方向旋转，能够改变上述圆柱形透镜的轴线相对于上述主扫描方向的角度。
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