[发明专利]投影机曝光装置、曝光方法以及元件制造方法有效
| 申请号： | 200810211496.1 | 申请日： | 2004-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN101387754A | 公开（公告）日： | 2009-03-18 |
| 发明（设计）人： | 白石直正 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00;G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿 宁;张华辉 |
| 地址： | 日本东京千代*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种照明光学装置及投影曝光装置，在以所定偏光(optical polarization)状态的照明光照明掩膜(mask)之际，可使光量损失减少。具有照明光学系统ILS与投影光学系统PL。照明光学系统ILS以照明光IL照射光栅(reticle)R，投影光学系统PL将光栅R的图案像投影于晶圆(wafer)W上。在照明光学系统ILS，来自曝光光源1以直线偏光状态所射出的照明光IL通过进相轴的方向不同的第一及第二双折射构件12、13，大略在特定环带状的领域，在以光轴为中心的圆周方向转换成实质上直线偏光的偏光状态后，经蝇眼透镜14等以环带照明条件照明光栅R。 | ||
| 搜索关键词： | 投影机 曝光 装置 方法 以及 元件 制造 | ||
【主权项】：
1. 一种照明光学装置，将来自光源的照明光照射于物体，其特征在于，包括:偏光控制机构，将从前述光源所照射出的预定偏光状态的照明光变换为所期望的偏光状态的光线；以及双折射构件，在照明光从前述偏光控制机构所射出时，以特定入射角度范围照射于前述物体的特定照明光成为以S偏光为主成分的偏光状态的光。
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