[发明专利]曝光方法及组件制造方法、以及基板及其制造方法无效
| 申请号： | 200810212433.8 | 申请日： | 2005-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN101373337A | 公开（公告）日： | 2009-02-25 |
| 发明（设计）人： | 藤原朋春;长坂博之 | 申请（专利权）人： | 尼康股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/11;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 杨俊波 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种曝光方法及组件制造方法、以及基板及其制造方法。其中曝光方法能将液体维持在期望状态下进行良好地曝光基板。在构成通过液体加以曝光的基板的基材的上面具有以感光材料被覆的有效区域，为避免在有效区域外侧的基材表面与液体接触，在有效区域外侧的基材表面的至少一部分以既定材料被覆。本发明提供的一种基板，是透过液体而曝光，具备：形成有感光材料膜的区域、与被施以边缘清洗处理的区域；该边缘清洗处理后的区域具有拨液性。本发明提供的一种基板制造方法，用以制造透过液体而曝光的基板，包括：在构成该基板的基材上形成感光材料膜；及对该感光材料膜的至少一部分施以边缘清洗处理；该边缘清洗处理后的区域具有拨液性。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 组件 制造 以及 及其 | ||
【主权项】：
1.一种曝光方法，通过液体将曝光用光照射于被保持在基板保持装置的基板上，以将该基板曝光，其特征在于：该基板保持装置是在该基板周围具有平坦部；在该基板的周缘部形成HMDS(六甲基二硅氨烷)层，以防止液体泄漏到被保持于该基板保持装置的基板与该平坦部的间隙。
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