[发明专利]用于化学机械抛光的层叠的纤丝栅格有效
| 申请号： | 200810213218.X | 申请日： | 2008-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN101367202A | 公开（公告）日： | 2009-02-18 |
| 发明（设计）人： | G·P·马尔多尼 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | B24D11/00 | 分类号： | B24D11/00;H01L21/304;B24B13/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 可用来在抛光介质(120)的存在下对磁性基材、光学基材和半导体基材中的至少一种(112)进行抛光的抛光垫(104)。所述抛光垫(104)包括层叠在抛光纤丝的基底层(204，404，504)上的多个抛光纤丝层(200，300，400，500)，所述多个抛光纤丝层(200，300，400，500)具有顺序层叠的形式，其中每个抛光纤丝层位于较低的抛光纤丝之上，与较低的抛光纤丝结合，所述多个抛光纤丝层(200，300，400，500)平行于抛光垫(104)的抛光表面，多个抛光纤丝层(200，300，400，500)中单独的抛光纤丝(202，302，402)位于平均至少三条抛光纤丝(202，302，402)之上，形成具有互连抛光纤丝的开孔栅格结构(210，310，410，510，610)的抛光垫。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械抛光 层叠 纤丝 栅格 | ||
【主权项】：
1.一种可用来在抛光介质的存在下对磁性、光学和半导体基材中的至少一种进行抛光的抛光垫，所述抛光垫包括层叠在抛光纤丝的基底层上的多个抛光纤丝层，所述多个抛光纤丝层具有依次层叠的形式，每个抛光纤丝层位于至少一个较低的抛光纤丝之上，与所述较低的抛光纤丝相结合，所述多个抛光纤丝层平行于抛光垫的抛光表面，所述多个抛光纤丝层中的单独的抛光纤丝是位于平均至少三根抛光纤丝之上，形成所述具有互连抛光纤丝的开放栅格结构的抛光垫。
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