[发明专利]用于实现基于模型的扫描器调整方法

摘要

本发明公开了一种用于实现基于模型的扫描器调整方法，所述方法采用参考光刻系统对第一光刻系统进行调整，所述参考光刻系统和第一光刻系统中的每个都具有用于控制成像性能的可调整参数。所述方法包括以下步骤：定义测试图案和成像模型；采用参考光刻系统对测试图案进行成像并测量成像结果；采用第一光刻系统对测试图案进行成像并测量成像结果；采用对应于参考光刻系统的成像结果对成像模型进行校准，其中经过校准的成像模型具有第一组参数值；采用对应于第一光刻系统的成像结果对经过校准的成像模型进行调整，其中经过调整的被校准的模型具有第二组参数值；以及基于第一组参数值和第二组参数值之差调整第一光刻系统的参数。

主权项

1.一种采用参考光刻系统调整第一光刻系统的方法，所述第一光刻系统和所述参考光刻系统中的每个具有用于控制成像性能的可调整参数，所述方法包括以下步骤：定义测试图案和成像模型；采用所述参考光刻系统对所述测试图案进行成像并测量成像结果；采用所述第一光刻系统对所述测试图案进行成像并测量成像结果；采用对应于所述参考光刻系统的所述成像结果对所述成像模型进行校准，所述经过校准的成像模型具有第一组参数值；采用对应于所述第一光刻系统的所述成像结果对所述经过校准的成像模型进行调整，所述经过调整的被校准的模型具有第二组参数值；以及基于所述第一组参数值和所述第二组参数值之间的差调整所述第一光刻系统的所述参数。