[发明专利]在光学计量中用近似和精细衍射模型确定结构的轮廓参数有效
| 申请号： | 200810213950.7 | 申请日： | 2008-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN101413791A | 公开（公告）日： | 2009-04-22 |
| 发明（设计）人： | 刘维;李世芳;杨维东 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 柳春雷;南 霆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及在光学计量中用近似和精细衍射模型确定结构的轮廓参数，提供了一种通过使用光学计量模型确定结构的一个或多个轮廓参数的方法，该光学计量模型包括轮廓模型、近似衍射模型和精细衍射模型。根据所述结构的近似衍射模型产生模拟近似衍射信号。通过从每个模拟精细衍射信号减去所述模拟近似衍射信号获得一组差值衍射信号，并将所述组差值衍射信号与相对应的轮廓参数配对并且用于产生差值衍射信号的库。由所述模拟近似衍射信号所调节的测量衍射信号与所述库比对，以确定所述结构的至少一个轮廓参数。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 计量 中用 近似 精细 衍射 模型 确定 结构 轮廓 参数 | ||
【主权项】：
1、一种通过使用光学计量模型确定结构的一个或多个轮廓参数的方法，该光学计量模型包括轮廓模型、近似衍射模型和精细衍射模型，该方法包括：(a)建立结构的计量模型，该计量模型包括轮廓模型，该轮廓模型具有轮廓参数；(b)优化该计量模型，该优化的计量模型包括优化的轮廓模型；(c)根据所述结构的近似衍射模型计算模拟近似衍射信号；(d)根据轮廓参数的组产生模拟精细衍射信号的组，通过使用所述结构的优化的轮廓模型来产生所述模拟精细衍射信号；(e)产生差值衍射信号和相对应的轮廓参数的库，所述差值衍射信号是通过从所述模拟精细衍射信号的组中的每个模拟精细衍射信号减去所述模拟近似衍射信号来计算的；(f)把通过减去所述模拟近似衍射信号而受到调节的测量衍射信号与差值衍射信号的所述库对比而确定最佳匹配；和(g)如果满足一个或多个匹配判据，则确定所述结构的至少一个轮廓参数。
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