[发明专利]低压阳极腐蚀箔Clˉ的清洗方法无效
| 申请号： | 200810218695.5 | 申请日： | 2008-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN101403135A | 公开（公告）日： | 2009-04-08 |
| 发明（设计）人： | 谭惠忠;王文宝;程永刚;孙岚;钱国庆;张洪 | 申请（专利权）人： | 肇庆华锋电子铝箔股份有限公司 |
| 主分类号： | C25F7/00 | 分类号： | C25F7/00;C25F3/04;B08B3/10;B01D61/42 |
| 代理公司： | 广州市南锋专利事务所有限公司 | 代理人： | 刘 媖 |
| 地址： | 526000广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种低压阳极腐蚀箔Cl-的清洗方法，本方法采用电渗析方法并选择合适的电极板、电源输出形式、导电液体及一定的工艺控制对腐蚀箔进行清洗，利用电场的作用对Cl-产生牵引力和其它综合作用而使Cl-脱离铝箔表面，另外电场也可以使其它离子进攻箔面以取代箔面Cl-的位置，使Cl-更好地脱离箔面，最终达到清洗箔面的效果，本方法的优点是既能有效地清洗干净Cl-，又能保证比容不损失，而且实施简单，成本低廉。 | ||
| 搜索关键词： | 低压 阳极 腐蚀 cl 清洗 方法 | ||
【主权项】：
1.一种低压阳极腐蚀箔Cl-的清洗方法，其特征在于：该方法采用电渗析方法，利用合适的电极板、电源输出形式、导电液体的工艺控制达到清洗高比容铝箔Cl-的效果。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于肇庆华锋电子铝箔股份有限公司，未经肇庆华锋电子铝箔股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810218695.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
