[发明专利]一种激光刻蚀薄膜的方法无效
申请号: | 200810220040.1 | 申请日: | 2008-12-15 |
公开(公告)号: | CN101585112A | 公开(公告)日: | 2009-11-25 |
发明(设计)人: | 黄庆举 | 申请(专利权)人: | 茂名学院 |
主分类号: | B23K26/36 | 分类号: | B23K26/36;B23K26/40;B23K26/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 525000广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明是一种紫外激光对PET材料刻蚀的方法,并对其中的机理及影响刻蚀的因素做了讨论。激光通过石英透镜聚焦后,照射在置于真空室内的PET膜片上,膜片可以转动。被激光照射后生成的产物由四极质谱检侧,同时用一个基板来沉积固体产物。X激光刻蚀高分子膜的研究内容之一是每个激光脉冲刻蚀膜层的深度。我们采用穿透法测量每个激光脉冲的刻蚀量,实验中是在PET膜的后面放置一片荧光材料,当荧光黄褐色烟雾生成,这是被解离的产物中含有碳氢化合物在空气中遇到氧气燃烧而造成的,因而在真空中没有火焰,刻蚀质量好。利用这种方法比较简单,效果佳。 | ||
搜索关键词: | 一种 激光 刻蚀 薄膜 方法 | ||
【主权项】:
1.一种激光刻蚀薄膜的方法,用于激光对高分子薄膜的刻蚀与表面处理工作,刻蚀效果好。
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