[发明专利]一种制作任意折射率调制光纤光栅的插拔式振幅掩模板无效
申请号: | 200810224361.9 | 申请日: | 2008-10-17 |
公开(公告)号: | CN101369096A | 公开(公告)日: | 2009-02-18 |
发明(设计)人: | 祁春慧;裴丽;宁提纲;吴树强;郭兰;赵瑞峰 | 申请(专利权)人: | 北京交通大学 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/00;G02B6/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100044北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种制作任意折射率调制光纤光栅的插拔式振幅掩模板,涉及光纤光栅制作等领域。该掩模板是在振幅掩模板支架(30)上端的缝隙内按照制作光纤光栅的折射率调制函数的外包络,依次无缝隙排列N个遮光片,N=L/M;其中L为振幅掩模板支架(30)两内侧间的距离,M为遮光片的宽度,M小于或等于0.2cm;折射率调制函数的起始位置设置在原点或距离原点为遮光片宽度M的整数倍处;根据折射率调制函数,通过x轴值计算得到相应的y值,即遮光片(11~1N)在振幅掩模板支架中的高度,在x1=M,x2=2M,x3=3M…xN=NM处依次无缝隙按照各自的高度,排列N个遮光片(11~1N),然后用螺钉固定。 | ||
搜索关键词: | 一种 制作 任意 折射率 调制 光纤 光栅 插拔式 振幅 模板 | ||
【主权项】:
1.一种制作任意折射率调制光纤光栅的插拔式振幅掩模板,其特征在于,该掩模板包括:遮光片(11~1N),振幅掩模板支架(30),它们之间的连接:在振幅掩模板支架(30)上端的缝隙内按照制作光纤光栅的折射率调制函数的外包络,依次无缝隙排列N个遮光片(11~1N),遮光片(11~1N)的个数N为整数,N由下式决定:N=L/M其中L为振幅掩模板支架(30)两内侧间的距离,M为遮光片的宽度,M小于或者等于0.2cm;设振幅掩模板支架(30)内左侧壁与底平面的交点为坐标轴原点,以振幅掩模板支架(30)底平面为x轴,折射率调制函数的起始位置设置在原点或距离原点为遮光片宽度M的整数倍处;根据折射率调制函数,通过x轴值计算得到相应的y值,即遮光片(11~1N)在振幅掩模板支架(30)中的高度,在x1=M,x2=2M,x3=3M……xN=NM处依次无缝隙按照各自的高度,排列N个遮光片(11~1N),然后用螺钉固定。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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