[发明专利]一种在金属基带上连续制备YBCO超导层的方法无效
| 申请号： | 200810225973.X | 申请日： | 2008-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN101736296A | 公开（公告）日： | 2010-06-16 |
| 发明（设计）人： | 张华;杨坚;刘慧舟;冯校亮;周其;古宏伟 | 申请（专利权）人： | 北京有色金属研究总院 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/58;C23C14/54;C23C14/06;B32B9/04;B32B15/04 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 程凤儒 |
| 地址： | 100088*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种在金属基带上连续制备YBCO超导层的方法，包括：(1)在连续制备YBCO超导层的设备的真空腔体中，将带有隔离层的金属基带固定在不锈钢引带上；(2)以YBCO为靶材，靶基距为35～60mm；(3)在抽真空前调整激光光路，使激光聚焦于靶位，并位于金属基带正下方；(4)抽真空至真空腔体内的真空度优于3×10-4Pa，且将金属基带加热至750～820℃；再向真空腔体内通入氧气，并控制纯氧气氛为10～60Pa；(5)使金属基带匀速运动，用脉冲激光沉积方法在带有隔离层的金属基带上制备YBCO薄膜；(6)将制得有YBCO薄膜的金属基带进行原位退火，即在带有隔离层的金属基带上制成YBCO超导层。使用激光法制备的YBCO薄膜不仅有良好的织构和表面形貌，更有高的电性能，沉积速率可达到200nm/min。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 基带 连续 制备 ybco 超导 方法 | ||
【主权项】：
一种在金属基带上连续制备YBCO超导层的方法，其特征在于：该方法包括下述步骤：(1)、在连续制备YBCO超导层的设备的真空腔体中，将带有隔离层的金属基带固定在不锈钢引带上，再将不锈钢引带固定在走带系统上；(2)、以YBCO为靶材，靶基距为35～60mm；(3)、在真空腔体中，采用脉冲激光沉积设备并在抽真空前调整激光光路，使激光聚焦于靶位，并位于金属基带正下方；(4)、抽真空至真空腔体内的真空度优于3×10-4Pa，且将金属基带加热至750～820℃并保持；再向真空腔体内通入氧气，并控制纯氧气氛为10～60Pa并保持；(5)、通过走带系统使金属基带匀速运动，用脉冲激光沉积方法在带有隔离层的金属基带上制备YBCO薄膜；(6)在真空腔体中，将制得有YBCO薄膜的金属基带进行原位退火，即在带有隔离层的金属基带上制成YBCO超导层。
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