[发明专利]一种纳米线场效应晶体管有效

专利信息
申请号: 200810226509.2 申请日: 2008-11-13
公开(公告)号: CN101740619A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 何进;张立宁;张健;张兴 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/12;H01L29/06
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 关畅
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种纳米线场效应晶体管。该晶体管是由栅电极、源区、漏区、中心区和栅介质层组成;其中,中心区为芯-壳结构,该芯-壳结构同轴;栅介质层全包围中心区,栅电极全包围栅介质层;源区和漏区分别位于中心区的两侧。其中,中心区的芯结构为绝缘体材料,壳结构为半导体材料;该壳结构材料的掺杂类型及掺杂浓度可调。该芯-壳结构的长度、壳半径以及芯半径可调;另外,该晶体管中,栅介质层、栅电极层、源区和漏区的材料均可调,栅介质层的厚度、源区和漏区材料的掺杂类型及掺杂浓度均可调。绝缘体芯结构的引入能有效降低传统纳米线晶体管的关态电流,提高器件的电流开关比,同时该晶体管受短沟道效应引起的阈值电压漂移以及漏致势垒降低效应的影响更小,尺寸缩小的性能更加优良。
搜索关键词: 一种 纳米 场效应 晶体管
【主权项】:
一种纳米线场效应晶体管,是由栅电极、源区、漏区、中心区和栅介质层组成;其中,所述中心区为芯-壳结构,所述芯-壳结构同轴;所述栅介质层全包围所述中心区,所述栅电极全包围所述栅介质层;所述源区和漏区分别位于所述中心区的两侧。
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