[发明专利]管状栅电极垂直沟道有机场效应晶体管及其制备方法有效
申请号: | 200810227455.1 | 申请日: | 2008-11-25 |
公开(公告)号: | CN101447552A | 公开(公告)日: | 2009-06-03 |
发明(设计)人: | 商立伟;刘明;涂德钰;刘舸;刘兴华 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | H01L51/05 | 分类号: | H01L51/05;H01L51/10;H01L51/40 |
代理公司: | 北京市德权律师事务所 | 代理人: | 王建国 |
地址: | 100029北京市朝*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了管状栅电极垂直沟道有机场效应晶体管,属于有机微电子学领域。该器件包括绝缘衬底上的源电极、介质层、半导体层、管状栅电极以及金属漏电极。其中器件的栅电极为管状,包裹在中心区的有机半导体层外围。栅电极和有机半导体层之间通过栅介质互相隔离开。源电极和漏电极均为平面电极,分别位于器件的底部和顶部,通过介质层和栅电极分离。本发明提供的器件结构通过把沟道方向从水平转变为垂直,只需要控制薄膜的生长厚度就能够有效控制器件的沟道长度,避免了昂贵的电子束光刻,是一种低成本的短沟道有机场效应晶体管。同时本发明还提供了这种器件的制备方法。 | ||
搜索关键词: | 管状 电极 垂直 沟道 有机 场效应 晶体管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种管状栅电极垂直沟道有机场效应晶体管,其特征在于,包括绝缘衬底以及在所述绝缘衬底上的栅电极、源电极、漏电极、介质层和半导体层;所述半导体层位于该器件中央,所述半导体层的上部与所述漏电极相接触,所述半导体层的下部与所述源电极相接触;在所述半导体层的外部包围有管状栅电极;在所述半导体层与所述栅电极之间填充有介质层,将所述半导体层和所述栅电极隔离开;在所述源电极与所述漏电极之间也填充有介质层,将所述源电极与所述漏电极隔离开。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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