[发明专利]一种磁控与离子束复合溅射沉积系统有效
| 申请号： | 200810228886.X | 申请日： | 2008-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN101736292A | 公开（公告）日： | 2010-06-16 |
| 发明（设计）人： | 郭东民;佟辉;冯彬;刘大为;鲁向群;金振奎;刘丽华 | 申请（专利权）人： | 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/35;C23C14/48;C23C14/54 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 许宗富 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明公开一种磁控与离子束复合溅射沉积系统，由磁控室、离子束室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、Kaufman离子枪、四工位转靶、磁力送样机构、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。磁控室和离子束室均为立式圆筒型，电动上掀盖结构，两个真空室下面各安装一套抽气系统，通过磁力送样机构实现两个真空室基片的交接。该系统磁控溅射和离子束溅射可以在两个独立的真空室同时进行，并且可以互作基片预处理室，而且取放基片和更换磁控靶靶材的工作都可以在磁控室进行，这样离子束室可以长时间保持超高真空。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子束 复合 溅射 沉积 系统 | ||
【主权项】：
一种双室磁控与离子束复合溅射沉积系统，包括磁控室(1)、离子束室(2)、磁控溅射靶(3)、基片水冷加热公转台(4、4′)、Kaufman离子枪(5、5′)、四工位转靶(6)、磁力送样机构(7)、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统；其特征在于：所述磁控室(1)和离子束室(2)通过闸板阀(13)互锁，通过磁力送样机构(7)实现两个真空室间的基片交接；两个真空室均为圆筒型立式结构，安装在机台架组件(9)上，共用一个电动提升机构(14)实现上掀盖；磁控室(1)通过闸板阀(13)和涡轮分子泵(8)联接并与下面的机械泵(16)组成一套真空抽气装置；离子束室(2)通过闸板阀(13″)和抽速涡轮分子泵(8′)联接并与机械泵(16′)组成另一套真空抽气装置。
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