[发明专利]凹槽绝缘栅型源-漏复合场板高电子迁移率晶体管有效

专利信息
申请号: 200810232530.3 申请日: 2008-12-01
公开(公告)号: CN101414636A 公开(公告)日: 2009-04-22
发明(设计)人: 毛维;杨翠;郝跃;过润秋 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/778;H01L29/06;H01L21/336
代理公司: 陕西电子工业专利中心 代理人: 王品华;朱红星
地址: 71007*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种凹槽绝缘栅型源-漏复合场板高电子迁移率晶体管,该器件自下而上包括衬底(1)、过渡层(2)、势垒层(3)、源极(4)、漏极(5)、绝缘介质层(7)、绝缘槽栅(8)、钝化层(9)、源场板(10)、漏场板(12)和保护层(13),该源场板与源极电气连接,该漏场板与漏极电气连接,其中,势垒层上开有凹槽(6);源场板与漏场板之间的钝化层上淀积有n个浮空场板(11)。每个浮空场板大小相同且相互独立,且按照等间距的方式均匀分布于源场板与漏场板之间。n个浮空场板与源场板和漏场板在钝化层上通过一次工艺完成。本发明具有工艺简单、可靠性强和输出功率高的优点,可制作基于宽禁带化合物半导体材料异质结的功率器件。
搜索关键词: 凹槽 绝缘 栅型源 复合 场板高 电子 迁移率 晶体管
【主权项】:
1. 一种凹槽绝缘栅型源-漏复合场板高电子迁移率晶体管,包括衬底(1)、过渡层(2)、势垒层(3)、源极(4)、漏极(5)、绝缘介质层(7)、绝缘槽栅(8)、钝化层(9)、源场板(10)、漏场板(12)和保护层(13),该源场板(10)与源极(4)电气连接,该漏场板(12)与漏极(5)电气连接,其特征在于,势垒层(3)上开有凹槽(6);源场板与漏场板之间的钝化层上淀积有n个浮空场板(11),n≥1,构成源-漏复合场板结构。
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