[发明专利]一种涂层导体用双钙钛矿型缓冲层的制备方法无效
申请号: | 200810232587.3 | 申请日: | 2008-12-05 |
公开(公告)号: | CN101413100A | 公开(公告)日: | 2009-04-22 |
发明(设计)人: | 卢亚锋;白利锋;李成山;闫果;王耀;刘国庆;马高峰;张国防 | 申请(专利权)人: | 西北有色金属研究院 |
主分类号: | C23C14/08 | 分类号: | C23C14/08;C23C14/22;H01B12/06;C04B35/00 |
代理公司: | 西安创知专利事务所 | 代理人: | 李子安 |
地址: | 710016陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种涂层导体用双钙钛矿型缓冲层的制备方法,制备过程为:以相应的氧化物为原料,按La2CuMnO6、Ca2NiWO6或Ca2CoWO6中阳离子的摩尔比称量、混合、研磨、烧结;再次研磨、压片后重复烧结,并将烧结样品打磨后得到靶材,在一定的衬底温度、氧分压、靶-衬距离下,入射到靶材表面的脉冲激光剥蚀靶体,形成余辉后将双钙钛矿沉积到衬底上,制得双钙钛矿型缓冲层。本发明方法工艺简单、成本低,所制备的双钙钛矿型缓冲层具有很好的c轴织构、表面粗糙度小且无微裂纹和孔洞,双钙钛矿型缓冲层与涂层导体的超导层之间晶格匹配良好。 | ||
搜索关键词: | 一种 涂层 导体 用双钙钛矿型 缓冲 制备 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种涂层导体用双钙钛矿型缓冲层的制备方法,其特征在于制备过程为:(1)将金属氧化物按照La2CuMnO6、Ca2NiWO6或Ca2CoWO6中阳离子的摩尔比为2∶1∶1称量,混合研磨后在1100℃温度下恒温处理24-72小时后取出;(2)再仔细研磨,混合充分,在压片机上用硬质钢模具,采用10MPa的压力压制成圆片状样品;(3)将步骤(2)中的圆片状样品放在刚玉坩埚里,在硅碳管发热体管式高温炉内烧结,在空气气氛中于1000-1100℃温度下烧结24-72小时,然后随炉冷却至室温,得到相应的双钙钛矿样品;(4)对步骤(3)中的双钙钛矿样品表面进行打磨制备成靶材;(5)将沉积室预抽真空,以清洗后的钇稳定的氧化锆YSZ、LaAlO3和SrTiO3单晶基片作为衬底,在氧气压力为5-10Pa的沉积气压和780-800℃衬底温度下,用能量为550mJ、频率为5-10Hz的脉冲激光剥蚀步骤(4)中所述靶材15-30分钟以获得薄膜,并在一个大气压氧气中将所述薄膜冷却至室温,即制得双钙钛矿型缓冲层。
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