[发明专利]灵敏触发单向可控硅有效

专利信息
申请号: 200810235387.3 申请日: 2008-11-18
公开(公告)号: CN101436611A 公开(公告)日: 2009-05-20
发明(设计)人: 史训南 申请(专利权)人: 无锡创立达科技有限公司
主分类号: H01L29/74 分类号: H01L29/74
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所 代理人: 曹祖良
地址: 214142江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种灵敏触发单向可控硅,在P型阳极区上形成N型长基区,在P型阳极区的下表面设置阳极电极,在N型长基区上形成P型短基区,在P型短基区上局部形成N+型发射区并且局部设置门极电极,在N+型发射区上设置阴极电极,所述N型长基区和P型短基区上拥有内沟槽包围着所述P型短基区、N+型发射区、门极电极和阴极电极;在所述N型长基区和N+型发射区之间设置横向扩散电阻,在阴极电极的一侧,接近横向扩散电阻处设置扩散电阻连接点;当门极电极和阴极电极间有电流时,在横向扩散电阻上产生一个电压降,当电压降大于或等于P-N结的门坎电压时,可控硅触发。本发明具有很好的温度特性、触发电流分布较集中、开关速度高。
搜索关键词: 灵敏 触发 单向 可控硅
【主权项】:
1、一种灵敏触发单向可控硅,在P型阳极区(1)上形成N型长基区(2),在P型阳极区(1)的下表面设置阳极电极(A),在N型长基区(2)上形成P型短基区(3),在P型短基区(3)上局部形成N+型发射区(4),并且,局部设置门极电极(G),在N+型发射区(4)上设置阴极电极(K),所述N型长基区(2)和P型短基区(3)上拥有内沟槽(5),所述内沟槽(5)包围着所述P型短基区(3)、N+型发射区(4)、门极电极(G)和阴极电极(K),其特征是:在所述N型长基区(2)和N+型发射区(4)之间设置横向扩散电阻(RGK),在阴极电极(K)的一侧,接近横向扩散电阻(RGK)处设置扩散电阻连接点(6);当门极电极(G)和阴极电极(K)间有电流(IG)时,在横向扩散电阻(RGK)上产生一个电压降(VR),当电压降(VR)大于或等于P-N结的门坎电压时,可控硅触发。
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