[发明专利]离子注入机真空降低注入剂量计量新型补偿方法无效
申请号: | 200810238902.3 | 申请日: | 2008-12-04 |
公开(公告)号: | CN101764033A | 公开(公告)日: | 2010-06-30 |
发明(设计)人: | 戴习毛;郭健辉;金则军 | 申请(专利权)人: | 北京中科信电子装备有限公司 |
主分类号: | H01J37/317 | 分类号: | H01J37/317;H01J37/244 |
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地址: | 101111 北京市中关村科*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种离子注入机精确控制离子注入剂量的方法,离子注入机真空降低注入剂量计量新型补偿方法流程包括1、2、3、4四个步骤。步骤1,利用残余气体分析器分析离子注入机内的残余气体,取得残留在离子注入机内的残余气体的种类,并测量上述残余气体在离子注入机内的分压值;步骤2,依照上述步骤所分析到的残余气体种类,可以找出各残余气体的常数K,其中常数K表示该种残余气体与离子束产生电荷交换发应的能力;步骤3,测量真空降低情况下离子束电流值Ic;步骤4,根据测量离子束的电流值Ic及系数K1,K2,K3,根据下式计算得到离子束实际注入量Is:Is=Ic×e(K1P1+K2P2+K3P3)这样采用理论补偿注入剂量方法可避免注入机为了增加真空抽速而增加真空泵及带来相关麻烦问题,使得离子注入机成本降低;同时,可根据实际情况灵活运用。 | ||
搜索关键词: | 离子 注入 真空 降低 剂量 计量 新型 补偿 方法 | ||
【主权项】:
一种离子注入机真空降低注入剂量计量新型补偿方法流程包括1、2、3、4四个步骤:步骤1,利用残余气体分析器分析离子注入机内的残余气体,取得残留在离子注入机内的残余气体的种类,并测量上述残余气体在离子注入机内的分压值。步骤2,依照上述步骤所分析到的残余气体种类,可以找出各残余气体的常数K(例如第一残余气体的常数K1、第二残余气体的常数KZ以及第三残余气体的常数K3),其中常数K表示该种残余气体与离子束产生电荷交换发应的能力。步骤3,测量真空降低情况下离子束电流值Ic,方法是利用离子注入内的测束FD筒来实现。步骤4,根据测量离子束的电流值Ic及系数K1,K2,K3,根据下式计算得到离子束实际注入量Is:Is=Ic×e(K1P1+K2P2+K3P3)其特征在于:这样采用理论补偿注入剂量方法可避免注入机为了增加真空抽速而增加真空泵及带来相关麻烦问题,使得离子注入机成本降低;同时,可根据实际情况灵活运用。,
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