[发明专利]旋流浓集的稀疏气固两相流电容层析成像测量方法及装置无效

专利信息
申请号: 200810240476.7 申请日: 2008-12-22
公开(公告)号: CN101441099A 公开(公告)日: 2009-05-27
发明(设计)人: 刘石;李志宏;韩振兴;李惊涛;孙猛 申请(专利权)人: 华北电力大学
主分类号: G01F1/86 分类号: G01F1/86;G01F7/00
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 代理人: 史双元
地址: 102206北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了属于气固两相流测量技术的一种旋流浓集的稀疏气固两相流电容层析成像测量方法及装置。该装置是在稀疏气固两相流的通道上连接旋流浓集装置,旋流浓集装置连接一个控制阀门和气泵,气泵的出口再连接到稀疏气固两相流的通道上。其方法是将稀疏气固两相流经旋流浓集后,固体颗粒将集中在壁面处,固体颗粒浓度采用单层电容传感器测量,速度采用双层电容传感器测量,将两者结合起来可以计算得出固体颗粒的质量流量。使用电容层析成像技术测量提高测量的精度。本发明提出的测量方法和传感器,集浓度、速度和质量流量测量于一体,结构简单,标定方便,解决了电容层析成像技术测量大直径管道中稀疏气固两相流的问题,应用领域广泛。
搜索关键词: 旋流浓集 稀疏 两相 流电 层析 成像 测量方法 装置
【主权项】:
1,一种旋流浓集的稀疏气固两相流电容层析成像测量装置,其特征在于,在稀疏气固两相流的通道上连接旋流浓集装置,在旋流浓集装置的上端口连接一个控制阀门,旋流浓集装置的下端口与控制阀门一起连接到气泵的入口,气泵的出口冉连接到稀疏气固两相流的通道上。
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