[发明专利]管式炉固体渗硅工艺无效
申请号: | 200810242453.X | 申请日: | 2008-12-26 |
公开(公告)号: | CN101503788A | 公开(公告)日: | 2009-08-12 |
发明(设计)人: | 顾啸强 | 申请(专利权)人: | 苏州市万泰真空炉研究所有限公司 |
主分类号: | C23C10/44 | 分类号: | C23C10/44 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215200江苏省吴江市吴江松陵*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 箱式炉固体渗硅法是热处理行业领域的一种用固体渗硅的方法。在工件表面渗硅可提高其在硫酸、硝酸、海水及大多数盐,稀碱液中的耐蚀性能,去在170-200℃油中浸后有较好的减磨性。目前主要采用液体渗硅,等离子渗硅,工艺比较复杂,成本高。该工艺主要由箱式加热炉,箱体作为工具,将工件放入箱体中加入粉末渗硅剂,其配方如下:20%硅铁粉+61%氧化铁+4%氧化铵+15%氧化铝。将上述粉末渗剂将工件包围压实,升温至1120℃保温1小时左右即可。 | ||
搜索关键词: | 管式炉 固体 工艺 | ||
【主权项】:
1. 用箱式电阻炉渗硅将配制好的粉末放入工件内升温到1100℃。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C10-00 金属材料表面中仅渗入金属元素或硅的固渗
C23C10-02 .被覆材料的预处理
C23C10-04 .局部表面上的扩散处理,例如使用掩蔽物
C23C10-06 .使用气体的
C23C10-18 .使用液体,例如盐浴、悬浮液的
C23C10-28 .使用固体,例如粉末、膏剂的
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