[发明专利]光学元件无效
| 申请号： | 200810301053.1 | 申请日： | 2008-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN101556344A | 公开（公告）日： | 2009-10-14 |
| 发明（设计）人： | 凌维成 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;G02B1/04;B32B33/00;B32B7/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学元件，其包括本体和设置在所述本体一个表面上的抗反射单元，所述抗反射单元包括依次设置在所述本体上的第一镀膜层、第二镀膜层、第三镀膜层、第四镀膜层以及最外面的第五镀膜层，所述第一镀膜层、第三镀膜层和第五镀膜层为厚度在6至100纳米之间的二氧化硅膜层，所述第二镀膜层和第四镀膜层为厚度在10至200纳米之间的二氧化钛膜层。所述光学元件具有较高的穿透率。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 | ||
【主权项】：
1.一种光学元件，其包括本体和设置在所述本体一个表面上的抗反射单元，其特征在于：所述抗反射单元包括依次设置在所述本体上的第一镀膜层、第二镀膜层、第三镀膜层、第四镀膜层以及最外面的第五镀膜层，所述第一镀膜层、第三镀膜层和第五镀膜层为厚度在6至100纳米之间的二氧化硅膜层，所述第二镀膜层和第四镀膜层为厚度在10至200纳米之间的二氧化钛膜层。
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