[发明专利]镀膜基片检测装置及镀膜基片检测方法无效
| 申请号： | 200810301523.4 | 申请日： | 2008-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN101576492A | 公开（公告）日： | 2009-11-11 |
| 发明（设计）人： | 王仲培 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/59 | 分类号： | G01N21/59;G01N21/01 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种镀膜基片检测装置。该镀膜基片检测装置包括一个具有相对两个端面的暗箱、一个设置于该暗箱一个端面的光源、一个设置于该暗箱另外一个端面的光强度感测器及一个与该光强度感测器电连接的透过率显示装置，该暗箱在该两个端面之间形成有一个暗箱门及一个与该暗箱门对应的镀膜基片收容部，该镀膜基片收容部用于收容多片由该暗箱门进出的镀膜基片。利用该镀膜基片检测装置可同时检测多片镀膜基片，检测效率高，且检测标准统一，检测效果好。另外，本发明还提供一种镀膜基片检测方法。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 检测 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种镀膜基片检测装置，其特征在于包括一个具有相对两个端面的暗箱、一个设置于该暗箱一个端面的光源、一个设置于该暗箱另外一个端面的光强度感测器及一个与该光强度感测器电连接的透过率显示装置，该暗箱在该两个端面之间形成有一个暗箱门及一个与该暗箱门对应的镀膜基片收容部，该镀膜基片收容部用于收容多片由该暗箱门进出的镀膜基片。
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