[发明专利]相机曝光装置及相机模组无效
申请号: | 200810302879.X | 申请日: | 2008-07-22 |
公开(公告)号: | CN101634793A | 公开(公告)日: | 2010-01-27 |
发明(设计)人: | 林宗瑜 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | G03B9/02 | 分类号: | G03B9/02;G03B7/08;G02B7/02;C08G63/181;C08F114/22 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518109广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种相机曝光装置,其包括一第一透光电极、一第二透光电极,及一夹设于该第一透光电极与第二透光电极之间的不透光的高分子驻极体膜层,该第一透光电极与第二透光电极之间至少有部分空间未被该高分子驻极体膜层填满,允许光线通过,当在第一透光电极及第二透光电极之间施加一电压时,该高分子驻极体膜层沿着平行于该第一透光电极或第二透光电极的方向伸展或缩小,从而调节通过该空间的光量。该曝光装置通过高分子驻极体膜的特性,即在外加电压下,其会产生形变来控制相机的曝光,可实现光圈或快门的功能。该相机曝光装置结构简单,无需复杂的机械控制机构,易于小型化、工作可靠性较高且无噪声,便于减小整个相机模组的体积。 | ||
搜索关键词: | 相机 曝光 装置 模组 | ||
【主权项】:
1.一种相机曝光装置,其包括一第一透光电极、一第二透光电极,及一夹设于该第一透光电极与第二透光电极之间的不透光的高分子驻极体膜层,该第一透光电极与第二透光电极之间至少有部分空间未被该高分子驻极体膜层填满,允许光线通过,当在第一透光电极及第二透光电极之间施加一电压时,该高分子驻极体膜层沿着平行于该第一透光电极或第二透光电极的方向伸展或缩小,从而调节通过该空间的光量。
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