[实用新型]一种单面曝光机的对位装置有效

专利信息
申请号: 200820003789.6 申请日: 2008-02-19
公开(公告)号: CN201170837Y 公开(公告)日: 2008-12-24
发明(设计)人: 张鸿明 申请(专利权)人: 川宝科技股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H05K3/00
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型是有关于一种单面曝光机的对位装置,包括一定位基板、一对位板及一升降机构;定位基板包括至少一横向移动机构及两组相互平行的纵向移动机构;对位板设在定位基板上方,利用横向移动机构及纵向移动机构加以支撑;升降机构包括一升降体、一止回转中心轴、一动力源及多支升降杆,止回转中心轴通过升降体连结定位基板及对位板,并定位上述三者于垂直向的位置。该单面曝光机的对位装置可以调动一曝光物至曝光定位,且具有控制系统简单化的功效,借由这样的装置能提高对位的精准度以及简化维修的问题。
搜索关键词: 一种 单面 曝光 对位 装置
【主权项】:
1、一种单面曝光机的对位装置,其特征在于:包括:一定位基板,该定位基板上包括:至少一组横向(X轴)移动机构,置于该定位基板上,该机构由一驱动单元连结至少一微动承座所构成,该微动承座由一X向滑块向上陆续叠合一Y向滑块与一组θ向转盘而组成;及两组纵向(Y轴)移动机构,平行置放在该定位基板上,该机构亦由一驱动单元连结至少一微动承座所构成,该微动承座由一Y向滑块向上陆续叠合一X向滑块与一组θ向转盘而组成;一对位板,设于该定位基板上方,利用该组横向移动机构及该两组纵向移动机构提供支撑,并借由该组横向移动机构的驱动,进行X轴方向的横向位移,且由该两组纵向移动机构的驱动,进行Y轴方向的纵向位移及θ向角度的转移;以及一升降机构,用以定位该对位板及该定位基板于垂直方向(Z轴)的相对位置,该升降机构包括:一升降体,设置于该定位基板中心区域的下方适当处;一止回转中心轴(Z轴),贯穿该升降体、该定位基板及该对位板,以联结并定位上述三者于垂直向(Z轴)的位置;一动力源,驱动该止回转中心轴转动,以带动该升降体在垂直向(Z轴)进行线性位移;及多支升降杆,设置在该升降体向上连结至该定位基板底部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于川宝科技股份有限公司,未经川宝科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200820003789.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top