[实用新型]一种单面曝光机的对位装置有效
申请号: | 200820003789.6 | 申请日: | 2008-02-19 |
公开(公告)号: | CN201170837Y | 公开(公告)日: | 2008-12-24 |
发明(设计)人: | 张鸿明 | 申请(专利权)人: | 川宝科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H05K3/00 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型是有关于一种单面曝光机的对位装置,包括一定位基板、一对位板及一升降机构;定位基板包括至少一横向移动机构及两组相互平行的纵向移动机构;对位板设在定位基板上方,利用横向移动机构及纵向移动机构加以支撑;升降机构包括一升降体、一止回转中心轴、一动力源及多支升降杆,止回转中心轴通过升降体连结定位基板及对位板,并定位上述三者于垂直向的位置。该单面曝光机的对位装置可以调动一曝光物至曝光定位,且具有控制系统简单化的功效,借由这样的装置能提高对位的精准度以及简化维修的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 单面 曝光 对位 装置 | ||
【主权项】:
1、一种单面曝光机的对位装置,其特征在于:包括:一定位基板,该定位基板上包括:至少一组横向(X轴)移动机构,置于该定位基板上,该机构由一驱动单元连结至少一微动承座所构成,该微动承座由一X向滑块向上陆续叠合一Y向滑块与一组θ向转盘而组成;及两组纵向(Y轴)移动机构,平行置放在该定位基板上,该机构亦由一驱动单元连结至少一微动承座所构成,该微动承座由一Y向滑块向上陆续叠合一X向滑块与一组θ向转盘而组成;一对位板,设于该定位基板上方,利用该组横向移动机构及该两组纵向移动机构提供支撑,并借由该组横向移动机构的驱动,进行X轴方向的横向位移,且由该两组纵向移动机构的驱动,进行Y轴方向的纵向位移及θ向角度的转移;以及一升降机构,用以定位该对位板及该定位基板于垂直方向(Z轴)的相对位置,该升降机构包括:一升降体,设置于该定位基板中心区域的下方适当处;一止回转中心轴(Z轴),贯穿该升降体、该定位基板及该对位板,以联结并定位上述三者于垂直向(Z轴)的位置;一动力源,驱动该止回转中心轴转动,以带动该升降体在垂直向(Z轴)进行线性位移;及多支升降杆,设置在该升降体向上连结至该定位基板底部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于川宝科技股份有限公司,未经川宝科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200820003789.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。