[实用新型]真空溅镀设备的进气装置无效
| 申请号： | 200820007896.6 | 申请日： | 2008-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN201172688Y | 公开（公告）日： | 2008-12-31 |
| 发明（设计）人： | 黄泳钊;郑博仁 | 申请（专利权）人： | 北儒精密股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种真空溅镀设备的进气装置，能将一工作气体输入该真空溅镀设备的一反应腔体内，并包括至少一容置于该反应腔体中的第一气柱及多个第一进气管。该第一气柱包括一其内部具有多个依序排列的段隔室的长柱体、多个设置于该长柱体上且分别对应连通该多个段隔室的进气孔以及多个密布于该长柱体上的出气孔。该多个第一进气管一端分别连接设置于该第一气柱的进气孔处，能将该工作气体分流输入该多个段隔室中，再经该多个出气孔以均匀扩散入该反应腔体内部，让整体能达到进气均匀性佳的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 设备 装置 | ||
【主权项】：
1.一种真空溅镀设备的进气装置，能将一工作气体输入该真空溅镀设备的一反应腔体内，并包括至少一容置于该反应腔体中的第一气柱以及多个第一进气管；其特征在于，该第一气柱包括一其内部具有多个依序排列的段隔室的长柱体、多个设置于该长柱体上且分别对应连通多个该段隔室的进气孔以及多个密布设置于该长柱体上且用以使多个该段隔室与该反应腔体内部互通的出气孔；该多个第一进气管一端分别连通设置于该第一气柱的进气孔处，以能将该工作气体分路地输入该多个段隔室中。
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