[实用新型]光掩模清洗机的工艺处理舱

摘要

本实用新型涉及一种光掩模清洗机的工艺处理舱，属于光掩模清洗机技术领域。主要包括外罩、内套和顶盖，所述的外罩由从上到下依次密封连接的上罩、中罩和底罩构成，上罩具有圆锥形的罩壁，中罩的罩壁上设有一个抽气口，且中罩内具有一个倒锥形的挡流圈，挡流圈延伸并超过抽气口，具有排液口的底罩与内套的下部密封连接，顶盖密封安装在内套的上部。本实用新型具有能减少对光掩模交叉污染，提高光掩模清洗效率的特点。

主权项

1、一种光掩模清洗机的工艺处理舱，包括外罩、内套(4)和顶盖(2)，其特征在于：所述的外罩由从上到下依次密封连接的上罩(1)、中罩(5)和底罩(6)构成，上罩(1)具有圆锥形的罩壁，中罩(5)的罩壁上设有一个抽气口(52)，且中罩(5)内具有一个倒锥形的挡流圈(51)，挡流圈(51)延伸并超过抽气口(52)，具有排液口(61)的底罩(6)与内套(4)的下部密封连接，顶盖(2)密封安装在内套(4)的上部。