[实用新型]气体反应室监测窗有效
| 申请号： | 200820056565.1 | 申请日： | 2008-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN201188414Y | 公开（公告）日： | 2009-01-28 |
| 发明（设计）人： | 顾琛;刘亮 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;H01J37/02;H01J37/244;H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 2012*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型揭露了一种气体反应室监测窗，其利用滑槽结构来限制保护盖板，而使得保护盖板仅可于滑槽所定义的平面内横向抽取，于是克服了先前技术中由于胶带逐渐失去粘性而使得保护盖板掉落甚至损坏的问题；同时保护盖板易于拆卸，方便了其清理。该监测窗包括：一窗体，具有相对的两个边沿且该边沿上分别形成有滑槽；一保护盖板，其相对的两边缘位于上述滑槽内。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 反应 监测 | ||
【主权项】：
1.一种气体反应室监测窗，其特征是，包括：一窗体，其具有相对的两个边沿且该两边沿上分别形成有滑槽；一保护盖板，其相对的两边缘位于上述滑槽内。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
