[实用新型]马赫-曾德尔型剪切波面测量系统无效

专利信息
申请号: 200820059890.3 申请日: 2008-06-18
公开(公告)号: CN201251486Y 公开(公告)日: 2009-06-03
发明(设计)人: 栾竹;刘立人;王利娟 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G01J9/02 分类号: G01J9/02
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 张泽纯
地址: 201800上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种马赫—曾德尔型剪切波面测量系统,该系统包括:由入射平板、出射平板、固定底座、第一反射平板、第二反射平板、第三反射平板、第四反射平板、第一导轨、第二导轨、成像透镜、小孔和CCD成像仪构成的干涉系统;提供精度保证的调整设备包括自准直平行光管、第一反射镜、激光准直光源、基准透反射镜、第二反射镜、光阑、第一五棱镜和第二五棱镜;控制处理系统包括压电控制器和计算机处理系统。本实用新型是一种适用于测量大口径,衍射极限下的波面,特别是适用于短相干长度的光源波面,可以进行移相处理,配有实时调整和标定的完整系统。
搜索关键词: 马赫 曾德尔型 剪切 测量 系统
【主权项】:
1、一种马赫—曾德尔型剪切波面测量系统,特征在于包括:由入射平板(1)、出射平板(2)、固定底座(23)、第一反射平板(3)、第二反射平板(4)、第三反射平板(5)、第四反射平板(6)、第一导轨(7)、第二导轨(8)、成像透镜(9)、小孔(10)和CCD成像仪(11)构成的干涉系统;提供精度保证的调整设备包括自准直平行光管(12)、第一反射镜(13)、激光准直光源(14)、基准透反射镜(15)、第二反射镜(16)、光阑(17)、第一五棱镜(18)和第二五棱镜(19);控制处理系统包括压电控制器(20、21)和计算机(22)处理系统;上述部件的位置关系如下:入射平板(1)和出射平板(2)为透射反射平板,该入射平板(1)和出射平板(2)的基准面严格平行地顺列地固定在同一个底座(23)上,该底座(23)斜置地固定在一基板的中间偏上位置,所述的第一反射平板(3)固定在第一导轨(7)上,该第一导轨(7)置于所述的基板的右上部位,第一反射平板(3)的方向与所述的入射平板(1)平行,间距为d13,所述的第一反射平板(3)通过第一导轨(7)的调整可沿水平方向移动,所述的第二反射平板(4)的方向与所述的第一反射平板(3)垂直,间距为d34,所述的第二反射平板(4)到所述的出射平板(2)的间距为d24,所述的第三反射平板(5)和第四反射平板(6)互相垂直,中心的间距为d56,共同固定在第二导轨(8)上,该第二导轨(8)置于所述的基板的中下部位,且第四反射平板(6)的方向与所述的入射平板(1)平行,间距为d16,所述的第三反射平板(5)到所述的出射平板(2)的间距为d25,所述的第四反射平板(6)、出射平板(2)和第一反射平板(3)的方向相互平行且中心在一条直线上;在所述的基板上的下边自左至右设置第一反射镜(13)和自准直平行光管(12),在所述的基板上的左侧自下至上设置激光准直光源(14)和第二反射镜(16),在所述的基板上的上侧自左至右依次是光阑(17)、第二反射镜(16)、基准透反射镜(15)、入射平板(1)和第一反射平板(3),在所述的基板上的上侧和所述的出射平板(2)的出射方向设置所述的成像透镜(9)、小孔(10)和CCD成像仪(11),该CCD成像仪(11)的输出端与计算机(22)相连;所述的第三反射平板(5)装有所述的压电控制机构(20、21),微动提供移相;沿待测光束入射方向依次是光阑(17)、第二反射镜(16)、基准透反射镜(15)、入射平板(1)和第一反射平板(3),该入射平板(1)将光束分为透射光束和反射光束,该反射光束经由第四反射平板(6)、第三反射平板(5)至所述的出射平板(2)构成第一光路,所述的透射光束经第一反射平板(3)、第二反射平板(4)反射达到所述的出射平板(2)构成第二光路,所述的第一光路与第二光路等光程;所述的第一反射平板(3)、第二反射平板(4)、第三反射平板(5)和第四反射平板(6)中有一块反射平板的结构是上下两部分构成的,上下部分可分别以垂直方向为轴,顺时针和逆时针方向转动角度,其他那三块反射平板为整块。
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