[实用新型]电极抛光清洗器无效
申请号: | 200820075382.4 | 申请日: | 2008-07-18 |
公开(公告)号: | CN201320718Y | 公开(公告)日: | 2009-10-07 |
发明(设计)人: | 孙志杰 | 申请(专利权)人: | 天津市技术物理研究所 |
主分类号: | B24B29/00 | 分类号: | B24B29/00;B24D11/00 |
代理公司: | 天津市三利专利商标代理有限公司 | 代理人: | 刘英兰 |
地址: | 300192*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种电极抛光清洗器,包括固定架台、储液器、旋转盘支架、抛光材料衬、旋转盘、电极架、电机及蠕动泵;所述固定架台上设有旋转盘支架,旋转盘支架上部同轴设有旋转盘,设有电机连接驱动旋转盘旋转;所述电极架对应旋转盘设置于固定架台上,定位电极的电极架中心部位同轴对应置于旋转盘上方;所述旋转盘呈内凹形,旋转盘内底部平行设有抛光材料衬;对应旋转盘下方的固定架台上设置连接蠕动泵的储液器,采用导管一端连接蠕动泵,另一端置于旋转盘的上方,旋转盘中心处设有渗漏孔;所述储液器内设有抛光剂。本实用新型能够自动完成对电极抛光清洗工作,并保证电极表面平整、光洁,确保实验数据的准确,其结构简单、性能可靠。 | ||
搜索关键词: | 电极 抛光 清洗 | ||
【主权项】:
1、一种电极抛光清洗器,其特征在于包括固定架台、储液器、旋转盘支架、抛光材料衬、旋转盘、电极架、电机及蠕动泵;所述固定架台上设有旋转盘支架,旋转盘支架上部同轴设有旋转盘,设有电机连接驱动旋转盘旋转;所述电极架对应旋转盘设置于固定架台上,定位电极的电极架中心部位同轴对应置于旋转盘上方;所述旋转盘呈内凹形,旋转盘内底部平行设有抛光材料衬;对应旋转盘下方的固定架台上设置连接蠕动泵的储液器,采用导管一端连接蠕动泵,另一端置于旋转盘的上方,旋转盘中心处设有渗漏孔;所述储液器内设有抛光剂。
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