[实用新型]低熔点玻璃制备窑炉有效
| 申请号： | 200820110205.5 | 申请日： | 2008-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN201250170Y | 公开（公告）日： | 2009-06-03 |
| 发明（设计）人： | 李宏彦 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C03B5/00 | 分类号： | C03B5/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘 芳 |
| 地址： | 100016*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及了一种低熔点玻璃制备窑炉，包括炉池，所述炉池顶部设有盖板，所述盖板中部设有与所述炉池导通连接的进料口，所述进料口周围部设有位于所述盖板上方的热源，所述热源覆盖面积小于所述炉池水平横截面面积的1/8；与所述进料口相对的所述炉池底部位置设有与所述炉池导通连接的出料口。本实用新型通过热源局部加热炉池，在炉池内外形成温度分布梯度，炉池内壁可形成玻璃液的固态本体，通过玻璃液的固态本体阻止高温玻璃液与炉池内壁的直接接触，有效避免了高温玻璃液对炉池的腐蚀，延长炉池使用寿命，明显降低了低熔点玻璃的制备成本；通过玻璃液的固态本体抗腐蚀，还有利于提高所制备的低熔点玻璃的纯度。 | ||
| 搜索关键词： | 熔点 玻璃 制备 | ||
【主权项】：
1、一种低熔点玻璃制备窑炉，其特征在于，包括炉池，所述炉池顶部设有盖板，所述盖板中部设有与所述炉池导通连接的进料口，所述进料口周围部设有位于所述盖板上方的热源，所述热源覆盖面积小于所述炉池水平横截面面积的1/8；与所述进料口相对的所述炉池底部位置设有与所述炉池导通连接的出料口。
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