[实用新型]一种基于散射的消相干匀场装置无效
| 申请号： | 200820122639.7 | 申请日： | 2008-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN201285473Y | 公开（公告）日： | 2009-08-05 |
| 发明（设计）人： | 成华;毕勇;颜世鹏;贾中达 | 申请（专利权）人： | 北京中视中科光电技术有限公司;中国科学院光电研究院 |
| 主分类号： | G02B27/48 | 分类号： | G02B27/48 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王 勇 |
| 地址： | 100094北京市海淀区永丰高新*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种用于激光的消相干匀场装置，包括中空波导和散射媒质，所述中空波导为密封腔体以容纳所述散射媒质并对所述激光实行传导。本实用新型通过激光在散射媒质中的传播过程中，通过散射媒质对激光发生的瑞利散射将激光分束并利用波导的混光作用将上述分束光进行匀化，最终得到相干性有效降低且照度分布均匀的激光光束。本实用新型的装置可以同时实现消相干和匀场功能，并且激光利用率高、成本低廉、无噪音、不耗电。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 散射 相干 装置 | ||
【主权项】：
1. 一种用于激光的消相干匀场装置，包括中空波导和散射媒质，其中，所述散射媒质适用于对所述激光实行瑞利散射，所述中空波导为密封腔体以容纳所述散射媒质并对所述激光实行传导。
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