[实用新型]多元素溅射靶材结构有效
| 申请号： | 200820124584.3 | 申请日： | 2008-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN201330279Y | 公开（公告）日： | 2009-10-21 |
| 发明（设计）人： | 古宏伟;屈飞;杨坚 | 申请（专利权）人： | 北京有色金属研究总院 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/14 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 朱印康 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公布一种多元素溅射靶材结构，属薄膜材料制备领域。金属元素薄板靶材通过焊接层焊接在圆形的金属背板上，在靶材的溅射环区域内主元靶材和次元靶材各以6～12个扇形面交替等间隔镶嵌在靶材溅射环区域内。特别适用于贵金属靶材结构。本实用新型各组元在溅射环区域呈同心扇形分布，其组元成份比例均匀、稳定、易于控制。通过调整靶材溅射环中各组元区域面积的大小，可调整靶材成份。只在溅射区域有价格昂贵的贵金属材料，降低了靶材成本，各组元未合金化，因此有利于靶材废料回收。本实用新型用于磁控溅射薄膜材料制备设备。 | ||
| 搜索关键词： | 多元 溅射 结构 | ||
【主权项】：
1.一种多元素溅射靶材结构，其特征在于：靶材溅射环区域(2)是与圆形的金属背板(5)同圆心的圆环，金属元素溅射靶材(3)镶嵌在靶材溅射环区域(2)内，并通过焊接层(4)焊接在圆形的金属背板(5)上，贱金属薄板靶材胎体(1)通过焊接层(4)焊接在圆形的金属背板(5)的其余部分。
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